请问下大佬们，离子注入中怎么控制入射粒子剂量呀？
2023-12-27 阅读 31
离子注入中的入射粒子剂量可以通过以下几种方式进行控制：
1. 加速电压控制：调节加速电压可以改变入射粒子的能量，从而影响入射粒子的剂量。通常情况下，提高加速电压可以增加入射粒子的能量和剂量。
2. 电流控制：调节注入电流可以控制单位时间内入射粒子的数量，从而控制入射粒子的剂量。增加注入电流会增加入射粒子的剂量。
3. 注入时间控制：通过控制注入时间，可以控制入射粒子的总数和剂量。延长注入时间可以增加入射粒子的剂量。
4. 掩膜技术：使用掩膜技术可以在待注入的材料表面形成遮挡层，只有部分区域暴露在入射粒子束下，从而控制入射粒子的剂量和分布。
需要注意的是，离子注入过程中的入射粒子剂量控制是一个复杂的过程，需要综合考虑多种因素，并进行实验验证和优化。具体的控制方法和参数设置应根据具体的实验需求和设备特点进行调整。
更新于 2023年12月27日
