磁控溅射氧化铝靶，为什么膜厚先上升后又下降？怎么调整仪器参数？
2023-05-12 阅读 87
磁控溅射氧化铝靶膜厚先上升后下降的原因可能是因为靶材表面积分过高，导致氧化铝颗粒在膜层中的分布不均匀，从而引起膜层厚度的变化。此外，也可能是氧化铝颗粒在溅射过程中发生了聚集，导致膜层厚度的不稳定。
调整仪器参数的方法取决于具体的设备和实验条件。一般来说，可以尝试调整溅射功率、气体流量、靶材距离等参数来控制膜层的厚度和均匀性。此外，还可以通过优化靶材的制备和处理方法，以及优化溅射过程中的气压和温度等条件，来改善膜层厚度的稳定性和均匀性。最终的调整方法需要根据具体情况进行优化和确定。
更新于 2023年05月17日
