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俄罗斯公布的11.2nm EUV光刻机路线图是怎样的？
2024-12-23 阅读 15
俄罗斯公布的11.2nm EUV光刻机路线图是指他们计划开发一种能够实现11.2纳米曝光分辨率的极紫外光刻机。这种光刻机将使用极紫外光（EUV）技术，这种技术可以实现更高的分辨率和更精细的芯片制造。该路线图包括了研发计划、技术挑战、生产计划等内容，旨在指导研究人员和工程师开发出符合11.2纳米曝光分辨率要求的EUV光刻机。
更新于 2024年12月23日
