ASML 探索 Hyper-NA EUV，这对光刻技术发展有哪些助力？
2024-02-17 阅读 13
ASML 探索 Hyper-NA EUV 技术将为光刻技术发展带来以下助力：
1. 提高分辨率：Hyper-NA EUV 技术可以实现更高的数值孔径（NA），从而提高光刻的分辨率，使得芯片制造可以实现更小尺寸的器件。
2. 增加制程容差：更高的数值孔径意味着更小的焦点尺寸，可以减少制程容差，提高制造的精度和可靠性。
3. 提高生产效率：Hyper-NA EUV 技术可以加快光刻曝光的速度，提高生产效率，有助于满足日益增长的芯片需求。
4. 推动技术创新：引入 Hyper-NA EUV 技术将鼓励芯片制造商和设备制造商进行更多的技术创新，推动整个行业向前发展。
总的来说，ASML 探索 Hyper-NA EUV 技术将为光刻技术带来更高的性能、更好的制程控制和更高的生产效率，推动半导体行业的发展。
更新于 2024年11月19日
